于他们之间谈的什么,外人无从知晓。
不过,谈完话以后,那位教授带领他的团队,离职加入了王林的爱秀科技。
这件事,在当时并没有引起多少人的关注。
在这个人人下海经商、个个向钱看齐的年代,一个大学教授的离开,并不是什么稀奇的大事,还不如一个明星换了经纪公司能引起世人的议论。
何况爱秀科技这么优秀,吸引人才是必然之事。
别说大学教授加盟了,便是院士加盟,世人看到也会觉得理所当然。
王林给爱秀科技的定位是十分明确的。
一个是给人做代工。
一个便是研究芯片的生产设备。
至于芯片的设计研究,王林没有想过要去做。
因为王林知道,这一块的工作,有的是人去做。
当大家都以为芯片的设计最重要的时候,王林却选择了做制造芯片的机器。
正常人看来,设计芯片的肯定比生产的工厂要赚钱。
办代工厂,既累又苦,利润还低。
欧美大厂对此不屑一顾。
但王林却选择了这条最辛苦的道路。
请来了光刻机领域最厉害的教授,王林成立了爱秀科技最重要的一个研发部门。
这个部门,这个团队,只做一件事,那就是尽一切能力,研究出新一代的光刻机技术。
我国的光刻机技术,曾经领先于世界,处于最先进的水平。
1964年我国科学院研制出65型接触式光刻机;1970年代,我国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺;清大研制第四代分部式投影光刻机,并在1980年获得成功,光刻精度达到3微米,接近国际主流水平。而那时,光刻机巨头ASML还没诞生。
1982年,科学院109厂研制出KHA-75-1光刻机,这些光刻机在当时的水平均不低,最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。
1985年,机电部45所研制出了分步光刻机样机,通过电子部技术鉴定,认为达到米国4800DSW的水平。这应当是我国第一台分步投影式光刻机,我国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。
很可惜,光刻机研发至此为止,我国开始大规模引进外资,有了造不如买、科技无国界的思想。光刻技术和产业化停滞不前。放弃电子工业的自主攻关,诸如光刻机等科技计划被迫取消,导致20年技术积累全部付诸东流。
1994年,江城无线电元件三厂破产改制,卖副食品去了。
九十年代以来,光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年,这个技术非常关键,这直接导致ASML如此强势的关键。直到二十一世纪,我国才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目,足足落后ASML20多年。
光刻机是采用类似照片冲印的技术,把掩膜板上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上的设备,是制造芯片的核心装备,也是目前顶尖科技的代表。
高精度光刻机的制造工艺极其复杂,核心零件便有8万个左右,共需要超10万个零部件,因此,光刻机也有了“现代光学工业之花”的称号。如此高的制造门槛,也就导致了光刻机制造领域的玩家也寥寥无几。
还好,王林出现了。
他在1995年横空宣布,进入半导体产业。
这个时间,正好是我们电子产业即将断代的时候,也是我国光刻机产业还不是太落后于外国的时候!
王林伸出他的大手,接住了时代赋予他的半导体接力捧!
他能否带领爱秀人,在半导体领域闯出一片别样的蓝天?
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